Hoʻomaka a me ka ʻike maʻalahi o ka uhi ʻana i ka ʻūhā (2)

Ka uhi hoʻoheheʻe: Ma ka hoʻomehana ʻana a me ka hoʻoheheʻe ʻana i kekahi mea e waiho ai ma luna o ka ʻili paʻa, ua kapa ʻia ʻo ia ka uhi ʻana.Ua noi mua ʻia kēia ʻano e M. Faraday i ka makahiki 1857, a ua lilo ia i mea hoʻokahi

hoʻohana mau ʻia nā ʻenehana uhi i kēia manawa.Hōʻike ʻia ke ʻano o nā mea hoʻoheheʻe evaporation ma ke Kiʻi 1.

Hoʻokomo ʻia nā mea i hoʻoheheʻe ʻia e like me nā metala, nā pūhui, a me nā mea ʻē aʻe i loko o kahi kīʻaha a kau ʻia paha ma kahi uea wela e like me ke kumu e hoʻoheheʻe ʻia ai, a waiho ʻia ka mea hana e hoʻopaʻa ʻia, e like me ke metala, keramic, plastic a me nā substrates ʻē aʻe. kīʻaha.Ma hope o ka hoʻokuʻu ʻia ʻana o ka ʻōnaehana i kahi maloʻo kiʻekiʻe, hoʻomehana ʻia ka crucible e hoʻoheheʻe i nā mea i loko.Hoʻokomo ʻia nā ʻātoma a i ʻole nā ​​molekole o ka mea i hoʻoheheʻe ʻia ma ka ʻili o ka substrate ma kahi ʻano condensed.Hiki ke mānoanoa o ke kiʻiʻoniʻoni mai nā haneli angstrom a i kekahi mau microns.Hoʻoholo ʻia ka mānoanoa o ke kiʻiʻoniʻoni e ka nui o ka evaporation a me ka manawa o ke kumu evaporation (aiʻole ka nui o ka hoʻouka ʻana), a pili i ka mamao ma waena o ke kumu a me ka substrate.No nā uhi ʻāpana nui, hoʻohana pinepine ʻia kahi substrate rotating a i ʻole nā ​​kumu evaporation he nui e hōʻoia i ka kūlike o ka mānoanoa kiʻiʻoniʻoni.ʻO ka mamao mai ke kumu hoʻoheheʻe a hiki i ka substrate e emi iho ma mua o ke ala kaʻawale o nā molekole mahu i loko o ke koena kinoea i mea e pale ai i ka hui ʻana o nā molekole mahu me nā molekole kinoea koena mai ka hopena kemika.ʻO ka awelika o ka ikehu kinetic o nā molekele mahu ma kahi o 0.1 a 0.2 electron volts.

ʻEkolu ʻano kumu hoʻoheheʻe.
①Ke kumu hoʻomehana kū'ē: E hoʻohana i nā metala refractory e like me ka tungsten a me ka tantalum e hana i ka pahu pahu a i ʻole ka filament, a e hoʻopili i ka uila e hoʻomehana ai i ka mea i hoʻoheheʻe ʻia ma luna o ia mea a i ʻole i loko o ka crucible (Figure 1 [Schematic diagram of evaporation coating equipment] vacuum coating) hoʻohana nui ʻia ke kumu e hoʻoheheʻe i nā mea e like me Cd, Pb, Ag, Al, Cu, Cr, Au, Ni;
②Ke kumu hoʻomehana induction kiʻekiʻe: hoʻohana i kēia manawa induction kiʻekiʻe e hoʻomehana i ka mea hoʻoheheʻe a me ka evaporation;
③Electron beam kumu hoʻomehana: pili No nā mea me ke kiʻekiʻe o ka evaporation wela (ʻaʻole i emi iho ma mua o 2000 [618-1]), ua hoʻoheheʻe ʻia ka mea ma ka pahu ʻana i ka mea me nā kukuna electron.
Ke hoʻohālikelike ʻia me nā ʻano hana hoʻoheheʻe maloʻo ʻē aʻe, ʻoi aku ka kiʻekiʻe o ka hoʻoheheʻe ʻana o ka evaporative, a hiki ke uhi ʻia me nā kiʻi ʻoniʻoni kumu a me nā mea hoʻoheheʻe ʻole i ka wela.

I mea e waiho ai i kahi kiʻiʻoniʻoni aniani hoʻokahi maʻemaʻe kiʻekiʻe, hiki ke hoʻohana ʻia ka molecular beam epitaxy.Hōʻike ʻia ka mea hana molecular beam epitaxy no ka ulu ʻana i ka doped GaAlAs one crystal layer ma ke Kiʻi 2 [Schematic diagram of molecular beam epitaxy device vacuum coating].Hoʻolako ʻia ka umu hoʻoheheʻe me kahi kumu molecular beam.Ke hoʻomehana ʻia i kahi mahana ma lalo o ka ʻūhā kiʻekiʻe kiʻekiʻe, hoʻokuʻu ʻia nā mea i loko o ka umu ahi i ka substrate i loko o kahi kahawai molekala e like me ka beam.Hoʻomaʻamaʻa ʻia ka substrate i kahi mahana, hiki ke neʻe nā molekala i waiho ʻia ma ka substrate, a ua ulu nā kristal i ke ʻano o ka lattice kristal substrate.Hiki ke hoʻohana ʻia ka epitaxy beam molecular

e kiʻi i kahi kiʻiʻoniʻoni aniani hoʻokahi me ka ratio stoichiometric i koi ʻia.Piʻi ka kiʻiʻoniʻoni i ka lohi Hiki ke hoʻomaluʻia ka wikiwiki ma ka 1 papa hoʻokahi / sec.Ma ka hoʻomalu ʻana i ka baffle, hiki ke hana pololei ʻia ke kiʻi ʻoniʻoni ʻoniʻoni hoʻokahi me ka haku mele a me ke ʻano.Hoʻohana nui ʻia ka molecular beam epitaxy e hana i nā mea hoʻohui optical like ʻole a me nā kiʻi ʻoniʻoni superlattice.


Ka manawa hoʻouna: Iulai-31-2021